环保热线
4008-656-678

深圳市源禹环保科技有限公司

电话:4008-656-678
传真:0755-86000681-821

邮箱:mark@orifrom.com

地址:广东省深圳市宝安区松岗街道潭头社区"宝安桃花园科技创新园松岗分园"B栋21楼


工业废水处理
光伏废水处理
时间:2020-03-04 作者:源禹环保 浏览数:

7.1废水的来源:

7.1.1多晶硅生产废水:

三氫硅烷还原生成多晶硅过程中产生的尾气经水淋洗产生的.主要反应为:SiHCI₃+H₂-Si + HCI产品反应)SiHCI₃+ HO-SiO+HCI(B气淋洗)废水中主要物质为SiO> HCI、硅醇及脱水生成的聚硅氯烷和硅酸、偏硅酸等.废呈强酸性,SiO, 粒径极小,大部分聚成团漂浮的水面.

7.1.2 切、磨、拋废水

来自三个工序:

1) 切片工序主要为粘石腊、冷却水等,废水中主要物质为:石腊、硅粉、PEG.

2) 磨片工序的磨液成分为洗液和肥皂制成的浮液.废水中主要物质为;表面活性剂、硅粉.

3) 抛光工序的抛光液的成分为环烷烃.废水中主要物质为:硅粉和経类有机物.切、磨、抛三种废水混合中灰色有乳状体. 7.1.3硅片清洗废水

清洗(酸洗法)废水由以下几部分过程产生:

1 SPM清洗H₂SO₄,溶液和H₂O₂溶液按比例配成SPM溶液,将金属氧化后溶于清洗液,并将有机污染物氧化成CO
HO。此工序会产生硫酸雰和废硫酸.

2 DHF清洗 用一定浓度的氢氟酸去除硅片表面的自然氧化膜,而附着在自然氧化膜上的金属也被溶解到清洗液中,同时 DHF抑制了氧化膜的形成.此过程产生氟化氢和废氢氧酸.

3 APM清洗 APM溶液由一定比例的NH₄OH溶液、H₂O₂溶液组成,硅片表面由于H₂O₂氧化作用生成氧化膜(约6nm呈亲 水性),该氧化膜又被NH₄OH腐蚀,腐蚀后立即又发生氧化,氧化和腐蚀反复进行,因此附着在硅片表面的颗粒和金属也随腐蚀层而落入清洗液内.此处产生氨气和废氨水

4 HPM清洗 HCI溶液和H₂O₂溶液按一定比例组成的HPM,用于去除硅表面的钠、铁、镁和锌等金属污染物.此工序产生 氯化氢和废盐酸.

5 DHF清洗去除上一道工序在硅表面产生的氧化膜.

7.1.4 砂浆回收废水

从砂浆中回收聚乙二醇、碳化硅过程中产生的废水,主要含聚乙二醇、碳化硅及添加剂AKD)等。

废水水质一太阳能电池

主要污染物:氢氟酸废水、含酸废水、含硅粉、切割液(聚乙二醇)废水.

1、 浓HF、浓KOH废水:F:10g/L以上

2、 稀HF废水:F:200mg/L左右

3、 稀酸、碱废水:酸和碱.

废水水质一砂浆回收

主要污染物:是主要从事太阳能硅片切割液、碳化硅微 粉、硏磨液、清洗剂等产品的技术开发和废砂浆的再生利用的 (聚乙二醇,碳化硅)废水.

高浓度废水:COD=40000mg/L

低浓度废水:COD=5000mg/L

废水水质——LED


 

 上一篇: 兰炭废水处理
下一篇: 钻井污泥浆废水处理

返回首页|关于源禹|资讯中心|人才招聘|网站地图|联系我们
© 2014 深圳市源禹环保科技有限公司 AllRights Reserved 粤ICP备13024603号 技术支持:深圳网站建设
地址:深圳市宝安区松岗街道潭头社区"宝安桃花园科技创新园松岗分园"B栋21楼 服务电话:0755-86000581